Výroba moderných mikroprocesorov sa nezaobíde bez zariadení, ktoré patria k technologicky a inžiniersky najzložitejším na svete. V oblasti fotolitografie – kľúčového procesu prenášania obvodov na kremíkové čipy pomocou svetla – dlhodobo dominujú etablovaní výrobcovia. Na čele najpokročilejšej litografie stojí najmä ASML, zatiaľ čo Nikon a Canon pôsobia predovšetkým v DUV a špecializovaných segmentoch. Najnovšie správy z polovice roku 2026 však naznačujú, že čínsky priemysel sa snaží túto závislosť prelomiť a podľa viacerých mediálnych reportov bola spustená výroba prvých kusov domácich imerzných DUV systémov.
Litografia predstavuje pomyselné srdce celého polovodičového odvetvia. Ide o proces, pri ktorom optické systémy a špeciálne svetelné zdroje premietajú predlohu obvodov na kremíkový wafer pokrytý fotocitlivou vrstvou.
Zatiaľ čo najpokročilejšie systémy na báze extrémneho ultrafialového žiarenia (EUV), ktoré vyrába takmer výhradne holandská spoločnosť ASML, zostávajú pre čínsky trh kvôli prísnym medzinárodným sankciám dlhodobo nedostupné, v oblasti staršej, no v priemysle stále široko využívanej imerznej DUV technológie (hlboké ultrafialové žiarenie) bola Čína odkázaná na dovoz. Podľa správ zahraničných agentúr a technologických portálov sa však táto situácia mení.
Konkrétne kroky: Úloha firmy v Šanghaji
Podľa mediálnych reportov (vrátane zistení agentúr ako Reuters či portálu The Information) rozbehla štátom podporovaná spoločnosť Shanghai Aishengna Electronic Technology Group výrobu s plánom na dodanie približne piatich strojov v roku 2026.
Tieto zariadenia majú smerovať k domácim producentom polovodičov, medzi ktorých patria spoločnosti ako SMIC, Hua Hong Semiconductor či pamäťový špecialista CXMT. V nasledujúcom roku 2027 sa uvažuje o raste produkcie na zhruba dvadsať jednotiek.
Keďže spoločnosť zatiaľ nezverejnila podrobné technické parametre ani dlhodobé prevádzkové výsledky zariadení, mnohé hodnotenia ich výkonu vychádzajú z informácií analytikov a mediálnych reportov. Ich praktické schopnosti bude možné spoľahlivejšie posúdiť až po nasadení v komerčnej výrobe.
Akékoľvek narušenie doterajších dodávateľských reťazcov citlivo vnímajú aj finančné trhy; po zverejnení týchto správ zaznamenali akcie spoločnosti ASML výrazný prepad (v analytických reportoch sa uvádzal pokles v rozmedzí zhruba 5 až 11 %).
Technický kontext: Prečo je DUV kľúčová (a kde sú jej hranice)
Pre pochopenie významu tohto kroku je nutné rozlíšiť dve kľúčové technológie:
- Imerzná DUV litografia: Využíva svetlo s vlnovou dĺžkou 193 nanometrov, pričom medzi výstupnou šošovkou a waferom sa nachádza vrstva špeciálnej kvapaliny (často čistej vody), ktorá zvyšuje index lomu a umožňuje dosiahnuť jemnejšie štruktúry. Táto technológia sa štandardne používa na výrobné uzly od približne 45 nm až po 7 nm (či dokonca 5 nm prostredníctvom viacnásobného vzorovania, tzv. multi-patterning). DUV tak zostáva nevyhnutnou súčasťou výroby aj najmodernejších čipov, pretože ani pri využití EUV sa všetky vrstvy čipu nevyrábajú výlučne touto novšou metódou – mnohé vrstvy, obzvlášť tie menej kritické, sa naďalej exponujú práve pomocou pokročilých imerzných DUV strojov.
- EUV litografia: Predstavuje o generáciu náročnejšiu technológiu s extrémno-ultrafialovým žiarením (13,5 nanometra), ktorá si vyžaduje zložité zrkadlá s atómovou presnosťou a vákuové prostredie. Táto oblasť zostáva pre čínsky domáci priemysel naďalej obrovskou výzvou.
Realistický pohľad: Signál verzus masová realita
Odborná verejnosť a analytici nabádajú k striedmym očakávaniam a upozorňujú na priepasť medzi zostrojením prvých funkčných kusov a zvládnutím masovej prevádzky:
- Výťažnosť a spoľahlivosť: Postaviť niekoľko strojov v laboratórnych či poloprevádzkových podmienkach sa nerovná dlhodobej stabilnej prevádzke v moderných továrňach (tzv. fabs), kde zariadenia musia pracovať v režime 24/7 s minimálnou chybovosťou. Spoľahlivosť litografie navyše závisí aj od presnosti optiky, fotorezistov, maskových systémov, metrológie a celého servisného ekosystému, keďže polovodičový priemysel je previazaný na obrovský technologický reťazec. Skúsenosti a servisnú sieť, akú za desaťročia vybudovali západné či japonské spoločnosti, sa nedajú nahradiť zo dňa na deň.
- Mierka produkcie: Kým etablovaní globálni lídri dodávajú na trh ročne desiatky až stovky sofistikovaných systémov, čínske plány na niekoľko kusov ročne predstavujú skôr strategický a technologický míľnik než okamžitú hrozbu pre globálnu dominanciu.
Okrem čisto technických prekážok však do hry vstupuje aj dôležitý ekonomický rozmer, ktorý presahuje hranice bežnej priemyselnej výroby.
Strategická poistka, nie (zatiaľ) komerčná konkurencia
Komerčná výroba špičkových čipov nestojí len na schopnosti domáceho stroja vytvoriť vzor na kremíku, ale aj na ekonomickej udržateľnosti. Cena jedného vyrobeného waferu musí byť konkurencieschopná. Keďže domáci vývoj je masívne dotovaný štátom, tieto zariadenia v prvej fáze neslúžia na ovládnutie globálneho trhu, ale plnia predovšetkým funkciu „strategickej poistky“ pre kľúčové štátne a obranné sektory, kde ekonomická efektivita v záujme geopolitickej bezpečnosti ustupuje do pozadia.
Záver
Projekt domácej výroby imerzných DUV strojov v Šanghaji ukazuje, že sankcie a exportné obmedzenia mali na čínsky polovodičový ekosystém dlhodobý, dvojaký účinok: nielenže ho krátkodobo pribrzdili, ale predovšetkým fungovali ako silný impulz pre masívne investície do vlastného vývoja. Čína sa postupne a systematicky posúva smerom k technologickej sebestačnosti v oblasti litografie, no cesta k plnohodnotnej náhrade špičkových západných technológií bude ešte veľmi dlhá a náročná.
